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非磁性光學(xué)隔振平臺

發(fā)布日期: 2024-04-23
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非磁性光學(xué)隔振平臺,TMC的CleanTop光學(xué)頂部采用非磁性結(jié)構(gòu),推薦用于需要支撐高強度磁鐵或保持均勻磁場的應(yīng)用。
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非磁性光學(xué)隔振平臺

TMC的CleanTop光學(xué)頂部采用非磁性結(jié)構(gòu),推薦用于需要支撐高強度磁鐵或保持均勻磁場的應(yīng)用。316合金頂層、底層和內(nèi)部蜂窩結(jié)構(gòu)可顯著降低鐵磁性能。同時,側(cè)壁和杯子不含鐵。

非磁性光學(xué)平臺(圖1)

特點:

? 表面的液體溢出物受到限制,無法到達頂部的蜂窩芯。

? 芯經(jīng)過全面的清潔和干燥,沒有殘留的螺紋切削油,從而不會釋放氣體。

? 極其干凈的螺紋孔使螺釘可以平穩(wěn)和輕松地插入。

? 可以輕松取出掉入孔中的小零件。

? 由于在頂部表面使用危險化學(xué)品時化學(xué)品不會滲入芯內(nèi),因此不小心接觸芯的化學(xué)品不會對健康造成危害。


非磁性光學(xué)隔振平臺

TMC光學(xué)頂部具有**的保證性能水平。此外,通過三級寬帶阻尼和三種環(huán)境選擇,TMC在性能水平的選擇方面具有**的靈活性。**阻尼水平的保證**順應(yīng)性水平如下圖所示。標(biāo)準(zhǔn)阻尼水平提供的順應(yīng)性水平比表中的水平高四倍。建議僅對非敏感應(yīng)用采用**小阻尼水平。這些曲線總結(jié)了TMC光學(xué)頂部的保證性能水平。此外,還提供了三個可用阻尼級別的臺面角落順應(yīng)性數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)通過沖擊測試和使用一磅校準(zhǔn)錘、加速計和雙通道頻譜分析儀獲得。如這些示例所示,實際測量的性能通常比我們保證的性能要好得多。

非磁性光學(xué)平臺(圖20)

應(yīng)用照片

非磁性光學(xué)平臺(圖21)非磁性光學(xué)平臺(圖22)非磁性光學(xué)平臺(圖23)非磁性光學(xué)平臺(圖24)非磁性光學(xué)平臺(圖25)非磁性光學(xué)平臺(圖27)

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